讯技光电公司首页 最新公告:2024年讯技课程安排发布啦! 黉论教育网校|English|全站搜索|联系我们
栏目列表
NEWSLETTER
最新发布

构造二维周期性光栅结构

共聚焦扫描显微镜的工作原理

用于光栅仿真的非偏振光

VirtualLab Fusion中偏振和全

超透镜的设计与分析

立方体光束整形器上的全内反

对光学系统中亚波长结构的严

倾斜光栅的鲁棒性优化

光栅的鲁棒性分析与优化

基于分布式计算的AR光波导中

高NA物镜聚焦的分析
时间:2018-12-10 14:17来源:未知作者: infotek点击:打印
摘要
 
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
 
 
建模任务
 
概观
 
光线追迹仿真
 
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
•点击Go!
•获得3D光线追迹结果。

 
光线追迹仿真
 
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
•单击Go!
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
 
 
场追迹仿真
 
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
•单击Go!
 
 
场追迹结果(摄像机探测器)
 
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。


 
场追迹结果(电磁场探测器)
 
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。


文件信息

 

 
关于我们
公司介绍
专家团队
人才招聘
讯技风采
员工专区
服务项目
产品销售
课程中心
专业书籍
项目开发
技术咨询
联系方式
地址:上海市嘉定区南翔银翔路819号中暨大厦18楼1805室    邮编:201802
电话:86-21-64860708/64860576/64860572  传真:86-21-64860709
课程:course@infotek.com.cn
业务:sales@infotek.com.cn
技术:support@infotek.com.cn
官方微信
扫一扫,关注讯技光电的微信订阅号!
Copyright © 2014-2024 讯技光电科技(上海)有限公司, All Rights Reserved. 沪ICP备10008742号-1