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高NA物镜聚焦的分析
时间:2018-12-10 14:17来源:未知作者: infotek点击:打印
摘要
 
高NA物镜广泛用于光学光刻,显微镜等。因此,在聚焦仿真中最基本的就是考虑光的矢量性质。 使用VirtualLab对这种镜头进行光线追迹和场追迹分析非常方便。通过场追迹,可以清楚地展示不对称焦斑,这源于矢量效应。相机探测器和电磁场探测器为聚焦区域的研究提供了充分的灵活性,可以让用户深入了解矢量效应。
 
 
建模任务
 
概观
 
光线追迹仿真
 
•首先选择“光线追迹系统分析器”(Ray Tracing System Analyzer)作为仿真引擎。
•点击Go!
•获得3D光线追迹结果。

 
光线追迹仿真
 
•然后,选择“光线追迹”(Ray Tracing)作为仿真引擎。
•单击Go!
•结果,获得点列图(2D光线追迹结果)。
 
 
场追迹仿真
 
•切换到场追迹并选择“第二代场追迹”(Field Tracing 2nd Generation)作为仿真引擎。
•单击Go!
 
 
场追迹结果(摄像机探测器)
 
•上图只显示整合了Ex和Ey场分量的强度。
•下图显示整合了Ex,Ey和Ez分量的强度。
Ez分量:由于在高NA情况下相对较大的Ez分量,可以看到明显的不对称性。


 
场追迹结果(电磁场探测器)
 
•所有电磁场分量均使用电磁场探测器获得。


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