高数值孔径(NA)物镜的聚焦分析

1. 摘要

   

高NA物镜广泛用于光刻，显微等技术。因此，聚焦仿真中考虑光的矢量性质至关重要。VirtualLab可以非常便捷地对此类镜头进行光线追迹和场追迹分析。通过场追迹，可以清楚地观察由于矢量效应引起的聚焦光斑失对称现象。利用相机探测器和电磁场探测器能够对聚焦区域进行灵活全面的研究，进而加深对矢量效应的理解。


 

2. 建模任务

  

3. 概述

 

4. 光线追迹仿真

 

5. 场追迹仿真

 

6. 场追迹结果(相机探测器)

7. 场追迹结果(电磁场探测器)

 利用电磁场探测器，我们可以获得多有电磁场分量的结果

 

 

8. 文件信息

 

更多信息

• Optical System for Inspection of Micro-Structured Wafer
• Imaging of Sub-Wavelength Gratings by Using Vector Beam Illumination