摘要
在传统的 Talbot 光刻中,在光敏层中仅使用一个图像。 但是,可以使用特殊的相位掩模以深度方式生成相位掩模的两个图像。 在本案例中,按照 I.-H. Lee 等人在 VirtualLab Fusion 中使用傅里叶模态方法 (FMM,也称为 RCWA) 对具有一层锥体的相位掩模进行建模。可以检测到不同的 Talbot 图像,在主像平面中会再现柱状图案,而在次要像平面中再现孔图案。
建模任务
structure and material parameters from I.-H. Lee, et al., Opt. Express 23, 25866-25873 (2015)
系统建模块
特定位置的Talbot图案
特定位置的Talbot图案
不同位置的Talbot图案
不同位置的Talbot图案
沿 Z 轴的强度
VirtualLab Fusion技术
文件信息
更多阅览
- Ultra-Sparse Dielectric Nano-Wire Grid Polarizers
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- Modeling of the Talbot Effect
- Configuration of Grating Structures by Using Interfaces
- Configuration of Grating Structures by using Special Media
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