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光学膜厚测量系统FilmOpt是基于反射膜厚技术的用于检测薄膜厚度的设备；通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射谱，快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息。
此外，我们提供基于该设备的膜厚和n&k测量服务。无论是单层膜还是多层膜，我们均可应对多种材料类型的测量需求。如有相关测量需求，欢迎通过邮件联系讯技光电技术支持团队：support@infotek.com.cn。
产品特点
■ 测量范围广；
■ 非接触、非破坏测量；
■ 核心算法支持薄膜到厚膜、单层到多层薄膜分析；
■ 节省空间、配置灵活、支持定制化
主要规格
*取决于材料
系统特色
超宽量程·纳米级精度
• 1nm~260μm 全覆盖，薄膜至厚膜一机搞定
• ＜0.02nm重复精度，满足半导体/光电领域严苛要求
硬核技术双驱动
• 高信噪比光谱仪：抗干扰强，数据更真
• 智能算法（FFT+AI拟合）：复杂膜层 3秒解析，结果稳定可靠
极简高效 · 灵活部署
• 一键测量，3秒出结果：零学习成本，适配产线高频检测
• 小型模块化设计：体积减 40% 支持扩展，省空间易升级，FilmOpt Standard尺寸仅226mm*256mm*76mm
经典案例
不同膜类展示
测试项目承接：膜厚及nk测试需求
本服务基于高级版光学膜厚测量系统，聚焦光学薄膜、涂层等高精度厚度检测，为光电子、显示、光学器件等领域提供符合行业标准的专业测试解决方案，适配研发验证、生产质控、产品合规等全场景需求。
服务核心特点
测量原理先进：采用光谱反射等光学检测技术，无接触、无损伤，避免对膜层及基材造成破坏。
精度与分辨率高：可实现纳米级精准测量，支持单层、多层光学膜的厚度及n&k值检测，数据准确度高。
适配场景精准：针对光学膜（如增透膜、偏光膜、滤光膜）、金属涂层等，兼容玻璃、硅材料等光学基板。
测量精度对比
研发意义
近年来随着光学行业的发展，光学薄膜测试的需求持续增长。在半导体、光伏、显示面板、精密涂层等核心产业快速升级的背景下，膜厚测量作为生产质控、研发创新的关键环节，面临着“高精度与低成本难以兼顾” “测量效率与膜层兼容性矛盾”“无损检测需求迫切” 三大核心痛点。传统测量设备或存在精度不足（误差超 ±5%）、或依赖破坏性检测（如切片法）、或对膜层材质（如透明 / 非透明、单层 / 多层）、表面状态（如粗糙 / 光滑）要求苛刻，且高端设备价格昂贵，中小制造企业难以负担。
为此，讯技光电提出的 “光学膜厚测量系统” 的研发核心意义在于：以 “高性价比” 打破高端设备垄断，以 “精准无损” 解决行业检测痛点，以 “高效兼容” 适配多元应用场景。设备采用先进光学干涉原理，实现 1nm或0.2% 的测量精度，满足纳米级膜厚检测需求；全程非接触式测量，避免对膜层造成损伤；测量速度大幅提升（单点位测量1秒左右），根据定制需求可进行样本连续检测，大幅提升生产效率；同时兼容金属膜、介质膜等多种材质，对膜层要求低，无需复杂预处理，真正实现 “即放即测”。通过技术创新，让各类规模企业都能以小成本获得高端检测能力，助力产业提质增效、降低生产成本。
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