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VirtualLab 5.10更新发布
时间:2014-12-25 10:32来源:讯技光电作者: 营销部点击:打印
LightTrans VirtualLabTM的持续完善——LightTrans VirtualLabTM 提供更多扩展功能,更易上手,性能更加卓越
VirtualLabTM正在持续扩展并完善。每年数次的新版本发布保证了VirtualLabTM的用户能立刻从这个平台的发展中受益。对于提升用户的便捷性和舒适度,改善数值性能,解决光学建模中的问题以及在适应现代计算机体系结构方面,使用LightTrans在VIrtualLabTM工具箱提供的更新服务都是非常有用的。
5.10版本的更新功能
参数运行模拟系列实验
改进的参数运行定义了针对公差和优化的实验系列,这对于用户来说会更加舒适方便,对结果缓存方式的改进使得运算速度大大提升。
部分相干光模拟          
VirtualLab提供了基于模式模型的合理方法进行时域和空域的部分相干光建模,通过高效方法以及并行处理急剧加速了模式的处理过程。
元件定位更加灵活          
光学元件的位置和方向定义更加自由,包括倾斜、偏离,以及公差分析和优化中的使用。
高效地追迹引擎            
包括场追迹和光线追迹的追迹引擎又有了进一步的扩展。作为系统一部分的光栅的严格模拟是其中一个例子
光束整形以及图形生成    
 添加了单色光以及白光LED整形的新设计方法。添加了新的输出格式.STL和.TIFF。
数据查看更方便            
VirtualLab对于数据和数据矩阵的显示、操作以及定值提供了新的选项,包括动画中的数据。
用户自定义建模            
VirtualLab.Programming用户可在可编程界面上添加自己的建模技术,这使得场追迹更加灵活。
飞秒和阿秒的时域空域建模  
飞秒阿秒的展宽压缩、聚焦整形的建模已经添加到5.8-5.10版本中。阿秒脉冲建模中会使用X光的色散关系。
黑匣子元件保护知识产权    
新添加的黑匣子元件可以使光学供应商提供给客户一个VirtualLab建模的加密元件
建模情况易跟踪            
场追迹对交叉学科的建模任务提供了高度灵活性,对于每一步的计算情况VirtualLab都有详细的日志记录。
 
关于光学建模设计中的需求和技术问题,我们诚邀您的探讨。
VirtualLabTM5.10把主要精力投入在了照明工具箱,改善了光束整形理念,使照明工具箱功能更强大。反射和折射整形元件可以在照明工具箱中使用,并且在设计分析复杂的光学系统过程中允许添加其他光学元件。
另外使用场追迹的概念进行光学建模性能得到了改善,包括坐标系的巧妙处理以及传播过程中分析参数的使用更加统一。
数据矩阵以及面对对象的数据矩阵的可视化有了极大改善,并开发了一维和二维数据的内容选择工具。
 
详情如下:
1、 照明工具箱
支持使用反射和折射整形元件,通过阵列反射镜及阵列棱镜实现。
对于反射和折射整形元件可以将其结构输出为txt文件及CAD格式,输出至CAD中由STL实现,包含结构规划及边界挤压。
可以建立复杂光学系统,输出结果由camera detector观察。
基于照明工具箱设计算法的元胞阵列可以使用随机生成来复现结果。
基于光束整形元件的元胞阵列的设计过程中,需要考虑到生产加工约束条件。
LLGA结果发生器可以自动计算一阶平均效率。
2、 参数运行
参数运行停止后再继续运行新的循环计算时,中间结果不会丢失,就是说参数运行可停止可继续,不用重头再来。
参数运行处理计算过的结果会更高效,定义没有合适结果的循环也会运行。
所有循环完成后可以自动保存结果,并且能强制关闭会话窗口。
参数运行的参数可视图表可以选择是否显示物理单位。
添加了所有光源的更多参数。
3、 位置/公差
公差改名为孤立地位(isolated positioning),会话框中的位置也做了调整。
恒等算子和坐标中断面可在4π空间中自由定义。
4、 光路流程图
连接两个元件的标准流程图允许选择瑞利-索末菲卷积和瑞利-索末菲求和算子。
扩展的日志会记录下光路流程图的内在传播逻辑,包括传播算子的完成步骤的扩展记录。
新日志标准加入到光路日志当中,因此可以查看并选择双界面元件(DIC)内的自动传播算子的选项。
新的光路流程图工具可以将一个元件加入到已经创建的光学界面序列(OIS)。
5、 传播
在之前的VirtualLabTM版本中,谐波场集的所有子场都必须在一个坐标系中定义,在5.10版中这个限制已经去除。这使得光路流程图性能更优,模拟也能更一致。
传播算子做了调整,使得到下一个传输面上的场计算更加优化,这保证了谐波场集的每个子场都会被单独计算。
大多数理想元件可通过解析地定义入射光坐标系来处理横向偏移。线性相位算子也能解析地处理场的方向。
真实元件可以解析地处理横向平移,传播技术的选择明确了是否能解析地解决平移。
采用光线追迹时,光线数量可以自由定义。
对一些理想元件可以进行光线追迹,会将理想化效果应用于入射光束上,例如线性相位、球面相位、分束器等等。
用户可以在光线束追迹模拟时选择探测器。
光路长度由光线束追迹决定,在脉冲评估探测器和光路长度分析仪中会使用光路长度信息。
6、 光源
所有光源在优化坐标系下产生输出信号,包括横向平移值及部分相干光源的平移模位置。对于平面波光源的方向也会做解析处理。
引入了对产生非单一谐波场的光源新的处理选择项,用户可以明确只选择用光源的其中一个模式,用户还可以通过选择横移序号及光谱序号来指定产生哪个模式。
7、 元件
新的黑匣子元件可以让用户对指定的子系统进行加密。黑匣子元件可以用于在不泄露安全IP的情况下发送用户的光学系统。
子系统元件可以用于打包一套定义好的LPD相对应的光路编辑界面(LPE),这个技术对于VL5.10解决棱镜问题来说非常有必要。
一个新的理想元件可通过用一个子系统的ABCD矩阵来定义该子系统。
用户可以定义一个固定到场尺寸和采样(field size and sampling)这样一个光路元件的输入传输面。
OIS预览会显示指定介质的折射率。
在OIS/Stack的标注行界面会在图示中呈红色。
可定义随机元胞/散斑型扩散器的种子。
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