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Essential Macleod 12.4新版本更新!
时间:2024-08-09 19:03来源:讯技光电作者: 技术部点击:打印
我们很高兴地宣布,Essential Macleod已经升级到了12.4,以下为更新内容:
 
1. 反演工程现在包含一个厚度变化的指数模型。这可以让初始膜层的工具因子变化,但随着连续的沉积进行,工具因子会接近稳定值,初始值和参数限制,也用来控制这个指数模型。
2. 增加了对具有厚度锥形的模拟支持。现在Context现有个额外的参数:Taper Distance。当使用这个的时候,就会应用Context里的Taper Distance值。(默认常规的这个值为0)。因此,这可以用于指定厚度锥度不同位置处的设计性能,如果要让此功能生效,每个材料中的Taper Factor要不为0。
3. 在Index Profile中,Thinckness Profile以及灵敏度分析工具,现在支持包含厚膜的设计。
4. Needle Synthesis现在添加材料的时候,反应更灵敏。以前在一些比较困难的设计中,很难暂停合成步骤。

以下问题已经被修复:
当导入频谱测量包含较大误差时,反演工程有时会崩溃
当默认设计包含未知材料时,File-New-Design可能会导致错误
从外部电子表格复制和粘贴时,无法识别平均值目标
当点击一些Browse按钮的时候,会导致产生一个错误
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