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泰伯(TALBOT)光刻机
时间:2020-11-16 10:57来源:讯技光电作者: 技术部点击:打印
作为最著名的衍射效应之一,泰伯(Talbot)效应可以用于光刻技术中以制造周期性纳米结构。继I.-H. Lee等人,我们在六边形网格上构造了一个圆锥形光栅掩膜版,并以深度方式模拟了Talbot图像的生成。 特别是,由于光刻过程中使用的紫外光是非偏振的,因此我们在示例中演示了如何为VirtualLab Fusion中的光栅模拟建模非偏振光。
 
圆锥形相位掩模的Talbot图像
 
 
在VirtualLab Fusion中对带有圆锥体的相位掩模版进行了建模。检测到不同的Talbot图像,以使柱形图案位于主像平面中,而孔图案出现在次像平面中。 
 
用于光栅仿真的非偏振光–实例讨论
 
 
示范了在VirtualLab Fusion的光栅仿真建模中,如何以两个正交偏振态的平均值建模非偏振光的影响。
 
了解更多信息发送消息至: support@infotek.com.cn / support@infocrops.com 
官方网站: http://www.infotek.com.cn / http://www.honglun-seminary.com
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