TRCX：掺杂过程分析 - 讯技光电科技(上海)有限公司

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TRCX：掺杂过程分析

时间:2021-12-29 21:03来源:讯技光电作者: 技术部点击:次打印

在 LTPS 制造过程中，使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时，应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容，并分析有源层离子注入前后的电位分布，如下图所示。

(a)FIB

(b) 掺杂前后对比

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