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JCMsuite应用:电磁场与独立的接触孔的相互作用
时间:2023-06-14 17:55来源:讯技光电作者: 技术部点击:打印
本案例为独立接触孔的模拟,如下所示:
 
 
在布局中文件layout.jcm中定义的几何设置,给定的平行四边形定义了掩模上边长为280nm的孔洞大小。由于这种模式建模时定义为孤立的,它在横向上被吸收掩模材料包围。在JCMsuite中,通过定义一个围绕几何单元的ConvexHull,可以方便地建立这个结构。这将自动建立一个ConvexHull与封闭模式的最小距离偏移。对于ConvexHull其域名、优先级和边界条件可以像往常一样定义。
由于掩模模式是孤立的,因此任意数量的相同频率、不同入射方向的入射平面波都可以定义为光源。
 
光瞳面的西格玛坐标用来定义不同的入射方向。在底部显示了传输磁场的一些图。后处理傅里叶变换的定义类似于周期设置。然而,在孤立的情况下,计算了一个离散表示的连续傅里叶变换的掩模远场分布。连续傅里叶变换因此在k空间的笛卡尔网格上采样。得到的仿真结果如下所示:
 
  
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