内容简介：
1.在VirtualLab中如何进行结构设计；
2.在VirtualLab中如何导入和导出加工数据。
结构设计
1) 点击  ，打开示例文件Sample_PhaseDistribution.ca2
2) 该示例文件包含处处振幅为1的纯粹的相位分布，默认为振幅视图. 点击  ，将默认的振幅视图转换为相位视图，点击“结构设计(Structure Design)”开始设计可产生该相位分布的对应结构
3) 进入(基于薄元近似)的纯相位透射结构设计系统窗口
目标(Target)标签，可以选择将设计好的结构设计元件放在新的LPD中还是已有的LPD中
光学设置(Optical Setup)标签，在此标签中选择模式为透明板的高度轮廓(Height Profile of Transparent Plate)，并可选择基板介质(Substrate Medium)和元件周围的介质(Surrounding Medium)，同时可以确定基板的厚度(Thickness of Substrate)以及中心波长（Wavelength）。
光学界面参数(Interface Parameters)标签，在相位展开模式(Unwrapping Mode)中选择不展开(None)，以及不进行强制分层(Enforce Quantization),即不产生离散界面，并选择像素化的高度轮廓（最临近点插值）[Pixelated Height Profile (Nearest Neighbor Interpolation)]对取样光学界面进行插值
4) 完成结构设计，在新的LPD中设计好的结构已经包含在名为“Generated Structure Design Component”的元件中
导出加工数据
1) 在LPD中双击生成的元件，可见设计好的结构是以双界面元件(Double Interface Component，简称DIC)的形式保存的，而高度轮廓以取样光学界面（Sampled interface）的形式保存，点击编辑(Edit)
2) 进入取样光学界面的编辑(Edit Sampled Interface)窗口，在结构(Structure)标签上，选择临近点插值(Nearest Neighbor Interpolation)方法进行高度轮廓插值，并进行3D预览
3) 在取样光学界面预览(Preview of Sampled Interface)中，点击鼠标右键，选择精度(Accuracy)，将界面取样精度设置为5，提高取样光学界面的显示精度
4) 进入界面高度离散化(Height Discontinuities)标签，将离散高度阶数(Discrete Height Levels)设置为8，通过工具(Tools)中的导出(Export)生成可用于光学界面加工的数据
5) 进入光学界面数据导出窗口
在一般(General)标签进行如下图所示的设置
在输出参数(Export Parameters)标签上选择默认参数设置
在GDSII/CIF标签上选择默认设置，并点击Export导出加工数据
导出加工数据列表
导入加工数据
1) 点击  ，新建一个LPD，在LPD中选取单光学界面(Single Optical Interface)元件，以下简称SOI
2) 双击SOI，进入其编辑窗口，点击加载(Load)
3) 导入取样光学界面(Sampled Interface)
4) 点击编辑(Edit)，进入取样光学界面编辑窗口，导入加工数据
5) 打开文件夹中的.xml文件，导入加工文件
6) 导入完成，观察3D视图
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