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斜光栅的高级配置
时间:2018-04-09 11:25来源:讯技光电作者: 技术部点击:打印
摘要

VirtualLab可用于分析任意光栅类型。斜光栅在复杂光学系统中已经可以实现,并且其重要性在提高。斜光栅通过特殊光学介质实现,以此定义其一般性的几何结构。而且,几个高级规格选项可用,例如,添加一个完整和部分涂层。这个案例解释了配置的可用选项,并且讨论了其对光栅结构的影响。



介质目录中的斜光栅介质

 
内置斜光栅介质可以在VirtualLab的嵌入的介质目录中找到。
可用于设置复杂光学光栅结构(所谓的堆栈)和傅里叶模式法(FMM)分析。
 
斜光栅介质的编辑对话框
 

斜光栅介质为周期性结构自定义提供很多选项。
首先,光栅脊和槽的材料必须在基础参数选项中定义。
这些材料既可以从材料目录选择,也可以通过折射率定义。
斜光栅介质的编辑对话框


在材料设置下面,可以定义光栅的几何结构。
以下参数可用:
- 填充率(定义光栅的上部分和下部分)
- z扩展(沿着z方向测量光栅高度)
- 倾斜角度左(脊左侧的倾斜角)
- 倾斜角度右(脊右侧的倾斜角)
 
如果倾斜角相同,通过点击不等号关联两个设置。
 
斜光栅介质的编辑对话框


为了添加可配置的涂层,必须激活应用涂层(Apply Coating)选项。
现在,额外的选项和结构的图形一起显示。
 
斜光栅介质的编辑对话框
 


首先,必须选择涂层材料。
同样地,材料可以从材料目录中选择,也可以通过折射率定义。
接着,分别配置每个侧壁,顶壁和底壁的涂层厚度,如草图所示。
 
斜光栅的编辑对话框


由于斜光栅由介质定义,必须在周期选项中设置周期。
由于用这个特别的介质来设计光栅,因此常常配置为周期性。
 
堆栈使用的评论



为了使用光学堆栈里的介质,有必要定义两个作为介质边界的表面。
一般来说,界面之间的距离必须手动设置。
对于斜光栅介质,介质高度(z方向)直接定义在介质配置中。
因此,表面之间的距离自动与斜光栅介质z扩展同步。
 
斜光栅介质的采样配置
 
斜光栅介质采样

接下来的幻灯片展示了一些选中的斜光栅介质案例。
在每个幻灯片的左边,编辑对话框展示了相关参数。
在右边,显示了介质的预览。
介质预览可以通过对话框部分底部的预览按钮获得。

 
采样斜光栅#1

 
采样斜光栅#2

 
采样斜光栅#3
 

 
采样斜光栅#4
 

 
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