通过高NA浸没显微镜进行聚焦

摘要

 

在浸没显微镜中，我们通常使用盖玻片将浸没液体和样品分开。因此，PSF可能会因盖玻片在焦平面处的界面而变形，这在设计过程中通常不能被很好地考虑。 在VirtualLab Fusion中，可以直接分析盖玻片界面对PSF的影响，以完全矢量的方式演示并分析盖玻片后面的焦点变形。

 

场景

 

在VirtualLab Fusion中构建系统

系统构建块

 

组件求解器

 

 

 

 

系统构建块

 

总结

 

 

几何光学仿真

通过光线追迹
 

结果：光线追迹

 

快速物理光学仿真

通过场追迹
 

在盖玻片的最后一个界面之前聚焦

 

聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方

 

在盖玻片的最后一个界面之前聚焦

 

 

聚焦在水中盖玻片的最后一个界面后方

 

总结

 

 

文件信息

 

更多阅览
- Debye-Wolf Integral Calculator
- Analyzing High-NA Objective Lens
- Resolution Investigation for Microscope Objective Lenses by Rayleigh Criterion