VirtualLab Fusion应用：随机分布公差分析 - 讯技光电科技(上海)有限公司

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VirtualLab Fusion应用：随机分布公差分析

时间:2024-08-15 20:47来源:讯技光电作者: 技术部点击:次打印

摘要

对于具有许多参数的系统，可以通过在给定边界内随机改变参数来研究公差。VirtualLab Fusion提供了各种随机分布来帮助光学工程师完成这项任务。在参数运行文档中，用户可以指定参数为均匀、正态或非对称正态分布。

在哪里可以找到组件？

Property Browser可以在主窗口的右侧找到。它与VirtualLab Explorer、Assistant和Distributed Computing共享同一个面板。

显示的选项和属性取决于活动*文档的类型(例如，数据阵列、光学设置等)。

*活动文档是用户点击的最后一个文档。

分布预览

均匀分布

对于Uniform Distribution，参数范围内的所有值被随机函数选中的概率相同。

基于标准差的正态分布

正态分布-参数范围

正态分布–截止分布

基于过程能力的正态分布

正态分布-区间中的相对位置

正态分布-过程能力指数

结果分析

例如找到倾斜角在-2°/2°特定光栅的最小效率:

文件信息

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